【愛國科技】重生一世，立志振興大夏，打破M國封鎖的李紅旗卻被誣陷剽竊國家機密而鋃鐺入獄，爲了減刑，他上交了半納米光刻機技術！
夏科院層層上報證實技術的可行性後，大夏高層震怒：“是誰敢害我國之棟樑！”
一聲令下，十萬武裝部隊、軍隊、坦克保衛監獄，迎接李紅旗出獄。
此後，擔任光刻機總工程師的李紅旗一發不可收拾！可控核聚變、天基武器、空天母艦、智能戰甲甚至二維摺疊武器！
且看李紅旗帶領大夏重回世界之巔！
次日一早，
關押李紅旗的門被打開，
張勳拉着李紅旗去往了監獄北邊區域的一間研究室。
“研究室內有監控，還有警衛在外巡邏。”
“今天這間研究室就屬於你了，但是研究室的東西不能外帶回監獄，我提醒你不要動歪腦筋，小心無期。”
李紅旗點頭，隨即開始梳理。
系統給了自己技術和圖紙，可並不是自己傳到自己腦子裏的，所以第一個難題就是需要李紅旗自己去學習理解。
然後用自己的方式寫出來。
打開系統給的文件，
眼花繚亂的公式、數字模型和圖紙擺在自己的眼前。
光刻機的原理不難理解，就是通過特製的精密光學鏡片，將激光器產生的高能激光投射在晶圓表面，精度需要達到納米級別。
如今的光刻機難題在兩個方面：
一、激光光源精度，隨着芯片對高分辨率的要求越來越高，要求光源具有高精度、功率大的特點，而且需要光線路徑真空化，而難點就在高精度和功率大上。
二、光學鏡頭，由於光刻機光源極短，容易溢散被玻璃吸收，所以光刻機必須使用全反光的特殊鏡頭，稱爲布拉格反射器。
而因爲納米級別的激光，鏡頭的精度也被要求到一個可怕的程度，即使是五納米的光刻機精頭，其鏡頭的規格也到了反射率99.998％，直徑30厘米，凹凸面幅度不超過0.3納米！